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原子層沉積技術可改善Micro LED的性能

來源:OFweek        編輯:davedit26    2019-04-30 08:48:15     加入收藏    咨詢

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據外媒報道,工業原子層沉積(ALD)薄膜涂層技術領先供應商Picosun集團日前表示,通過使用一種稱為ALD鈍化的技術提高了其Micro LED的性能。

  據外媒報道,工業原子層沉積(ALD)薄膜涂層技術領先供應商Picosun集團日前表示,通過使用一種稱為ALD鈍化的技術提高了其Micro LED的性能。

  Picosun認為,對于包括液晶顯示器、OLED以及傳統LED等現有顯示技術來講,Micro LED是一大挑戰。因為Micro LED提供了包括體積小、低功耗、卓越的亮度及能效、更高的對比度及色彩飽和度、超高分辨率、靈活性以及良好的可靠性等性能。

  目前全球許多領先的電子制造商和研發機構都在抓緊研發Micro LED。這類Micro LED設備通常用于包括平板電腦、智能手機和智能手表等設備的小尺寸屏幕中。

  但是,Micro LED技術的一些缺點,也阻礙了該技術的全面商業突破。Micro LED屏幕由可產生綠色、藍色和紅色光的微小的像素組成,而制造這些像素的一些步驟容易導致其精細納米級結構的損壞,進而會導致光強度的損失。

  Picosun表示,現已證實ALD“可以有效地修復這些結構損壞,不僅可以恢復照明強度,還可以將其提高到更高水平。”

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